场发射扫描电镜
二次电子分辨率: 0.8nm（15KV），1.6nm（1KV）
背散射电子分辨率: 2.0nm（15KV）
放大倍数: 12X~350,000X
可分析元素: 5(B)－92(U)
一、主要规格及技术指标
1.二次电子分辨率：0.8nm（15KV），1.6nm（1KV）；
2.背散射电子分辨率：2.0nm（15KV）；
3.放大倍数：12X~350,000X；
4.可分析元素：5(B)－92(U)；
5.加载配件:能谱仪(EDS)、背散射电子衍射分析仪(EBSD)、原位拉伸台
二、材料要求
粉末、片状样品（长宽高控制在20*20*10mm内）
三、主要功能及应用范围
主要功能：主要用于观察、分析并记录材料的微观形貌特征，以及对材料组成与结构分析。主要体现在：
1．具有高、低真空两种模式。
2．具有EDAX能谱与电子背散射衍射（EBSD）功能。
应用范围：样品的形貌分析、微区成份分析、微区取向、微观织构分析、晶体结构分析、物相分析、实时三维表面形貌成像等。
1．金属、陶瓷、高分子、矿物、水泥、半导体、纸张、塑料、食品、生物等材料的显微形貌、晶体结构和相组织的观察和分析。
2．各种材料微区化学成分的定性和半定量检测。
3．粉末、微粒纳米样品形态和粒度的测定。
4．复合材料界面特性的研究。
